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芯片嵌入式封装工艺与市场分析及合明科技6G芯片清洗剂介绍

合明科技 👁 1994 Tags:晶圆级封装清洗6G芯片清洗AI芯片清洗剂


芯片嵌入式封装是当前半导体行业的重要技术方向,它通过将芯片直接嵌入到基板内部,在减小尺寸、提升性能和支持异构集成方面展现出显著优势,尤其契合AI、5G和智能驾驶等前沿领域对硬件的高度需求。

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下面这个表格梳理了这项技术的核心应用、创新动态和市场前景,可以帮助你快速建立整体认知。

技术维度核心应用与市场需求工艺创新动态市场前景与区域格局
AI/高性能计算➤ 满足AI芯片对高带宽和高速互联的极致要求。➤ 2.5D/3D集成:利用硅中介层和TSV(硅通孔)实现芯片和高带宽内存的高密度垂直整合。➤ 2030年全球先进封装市场规模有望达800亿美元。
➤ HBM(高带宽内存)与CoWoS等2.5D/3D封装成为AI服务器标配。➤ Chiplet(小芯片):将大芯片分解为模块化芯粒,通过先进封装重新集成,提升良率与灵活性。➤ 2.5D/3D封装增速远超行业平均,是市场主要驱动力。
汽车电子➤ 电动化和智能化(如ADAS、信息娱乐系统)催生对高可靠性、紧凑型封装的需求。➤ 嵌入式基板:如英飞凌将SiC芯片直接嵌入PCB,以提升电动车续航和效率。➤ 汽车是嵌入式封装市场增长最快的应用领域之一。
➤ 需优化电源管理和热性能。➤ 信号完整性优化:如上汽英飞凌通过优化功率模块封装结构,减少寄生电感,提升测量准确性。➤ 欧洲市场由强大的汽车和工业领域塑造。
5G/消费电子➤ 5G网络部署要求封装解决方案具备高能效、高集成度和高数据速率。➤ 晶圆级封装(WLP):在晶圆上直接完成封装,实现更小、更薄、更高效的芯片。➤ 消费电子是晶圆级封装最大的应用市场。
➤ 智能手机、可穿戴设备追求持续小型化。➤ 扇出型封装(FO-WLP):在芯片尺寸外进行布线,提供更高的I/O密度和设计灵活性。➤ 5G基础设施的快速发展为封装技术创造了利润丰厚的增长机会。

工艺创新的核心方向

当前的工艺创新主要围绕如何实现更高密度、更高性能的集成展开,具体体现在以下几个方向:

  • 晶圆级集成与3D堆叠:行业正在从传统的平面封装向立体堆叠演进。例如,Fraunhofer CEASAX等研发中心正在推动300mm晶圆上的前端与先进封装技术整合,并开发混合键合(Hybrid Bonding) 和细间距微凸点等关键技术,以实现最大连接密度和最小堆叠高度。3D TSV技术则通过垂直堆叠芯片,显著缩短互连长度,从而提升带宽、降低功耗

  • 功能化中介层与新材料:中介层是2.5D封装中连接芯片与基板的关键部件,其技术正在不断进化。除了传统的硅中介层,“功能化中介层” 被赋予更多无源器件或再布线层功能,成为提升系统性能的核心元件。同时,新材料是推动工艺微缩的基础,例如Taiyo Holdings与imec合作开发的新型负型光敏介电材料,成功在12英寸晶圆上实现了1.6微米的细间距布线结构,这对于未来实现更微型的封装至关重要

  • 柔性电路板与系统集成:在追求小型化的同时,封装技术也在适应更多的应用形态。柔性电路板因其轻量化、可弯曲的特性,在嵌入式封装市场中占据重要份额,特别适用于汽车和消费电子领域对空间和可靠性要求高的场景

市场格局与挑战

在市场前景向好的同时,也需要关注其发展的驱动力和面临的挑战。

  • 强劲的市场驱动力:嵌入式及先进封装市场的增长受到多重因素的推动:

    • AI与高性能计算是当前最强劲的引擎,对算力和带宽的无止境需求直接拉动了高端封装技术的创新与应用

    • 5G的全球扩张、汽车电动化智能化以及消费电子的持续创新,共同构成了广泛的下游应用基础

    • 供应链安全与地缘政治促使各国政府加大对本国产能的投资。英特尔在美国建设先进封装产线,其“本土供应链”的优势正吸引苹果、高通等公司进行评估,以作为对台积电的替代选择

  • 主要的挑战与瓶颈:技术的演进并非一帆风顺,行业需要克服以下难题:

    • 设计与成本复杂性:嵌入式封装设计复杂,且建立先进封装产线需要巨大的初始投资。例如,CoWoS技术中使用的大面积硅中介层,其成本可占到封装总成本的50%-70%

    • 热管理压力:随着芯片密度不断提高,封装体内的热密度也急剧上升,对散热管理提出了极致挑战

    • 供应链瓶颈:全球半导体供应链依然脆弱,关键材料的获取和价格波动可能影响生产。同时,顶尖封装产能(如台积电的CoWoS)出现供不应求,排队周期漫长

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希望以上分析能帮助你全面了解芯片嵌入式封装这一领域。

AI芯片清洗剂-合明科技锡膏助焊剂清洗剂介绍:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

合明科技研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

合明科技运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。

推荐使用合明科技水基清洗剂产品。

合明科技致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。合明科技 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。合明科技全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。合明科技致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。合明科技的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。

合明科技凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。

主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。

半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。

 


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