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Fan-Out芯片封装工艺与市场应用全景解析


Fan-Out芯片封装工艺与市场应用全景解析

Fan-Out(扇出型)封装技术作为先进封装的重要分支,通过重构芯片I/O端口布局实现更小尺寸、更高集成度,已成为半导体行业突破物理限制的关键方向。以下从工艺流程、核心技术难点及市场应用三方面展开解析。

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一、Fan-Out芯片封装工艺流程详解

Fan-Out封装的核心逻辑是在晶圆级加工中突破芯片原始I/O布局限制,通过重布线(RDL)实现引脚“扇出”式扩展。其工艺流程可分为载板准备、芯粒贴装、塑封成型、RDL制备、凸点制作及切割测试六大核心步骤:

1.1 载板准备与芯粒贴装

  • 载板预处理:在临时载板表面依次涂覆释放膜(Release Film)和粘性胶带(Adhesive Tape),确保后续工艺完成后可剥离载板。

  • 芯粒精准贴装:通过高精度拾取-放置(Pick and Place)设备将切割后的裸芯片(Die)按预设间距贴附于载板,贴装精度需控制在±1μm以内,以避免后续RDL错位。

1.2 塑封成型与应力控制

  • 整体塑封:采用环氧树脂等塑封料(Molding Compound)将芯粒与载板整体包裹,形成“重构晶圆”(Reconstituted Wafer)。塑封工艺需解决材料固化收缩导致的芯粒偏移问题,例如通过优化塑封料配方降低热膨胀系数(CTE)差异3

  • 载板剥离:塑封完成后去除临时载板,露出芯粒的I/O焊盘(Pad),为RDL制备做准备。

1.3 重布线(RDL)制备:Fan-Out技术核心

  • RDL层构建:通过光刻、电镀铜工艺在塑封表面形成多层金属布线,将芯粒的I/O端口从中心区域“扇出”至更大面积。RDL工艺类似微型PCB制造,线宽/线距可达到1-5μm,支持高密度互联。

  • 自适应补偿技术:针对芯粒贴装偏移,通过光学检测设备测量每个芯粒的实际位置,将数据反馈至光刻系统,动态调整RDL图形以匹配物理位置,提升良率。

1.4 凸点制作与切割测试

  • 焊球植球:在RDL顶层焊盘制作锡铅凸点(Bump)或铜柱凸点,作为与外部主板连接的接口。

  • 切割与测试:将重构晶圆切割为单个封装体,进行电气性能测试(如信号完整性、功耗)和可靠性测试(温循、湿热老化)。

二、核心技术难点与解决方案

Fan-Out封装的量产挑战主要集中在工艺精度控制与材料兼容性,具体解决方案如下:

技术难点成因行业解决方案
芯粒贴装偏移塑封料收缩、粘性胶带粘力不足采用高精度贴片机+自适应RDL图形补偿技术3
重构晶圆翘曲塑封料与芯粒CTE不匹配引入低热应力塑封料(如纳米填充环氧树脂)3
RDL良率低下线宽过细导致短路/断路采用大马士革电镀工艺提升布线均匀性2


三、Fan-Out封装的市场应用与技术优势

Fan-Out技术凭借小尺寸、高集成度、低成本特性,已广泛应用于消费电子、汽车电子及高性能计算领域:

3.1 智能手机与可穿戴设备

  • 应用场景:射频芯片(RFIC)、电源管理芯片(PMIC)封装。例如,苹果Watch采用Fan-Out封装将多颗芯片集成,实现0.8mm超薄机身设计。

  • 技术优势:封装尺寸比传统BGA减小30%以上,满足终端设备小型化需求。

3.2 汽车电子与工业控制

  • 高可靠性需求:采用陶瓷基Fan-Out封装,可耐受-40℃~150℃宽温环境,适用于车载雷达、自动驾驶域控制器。

  • 成本优势:相比SiP(系统级封装),Fan-Out省去中介层(Interposer),单位面积成本降低20%-30%。

3.3 高性能计算(HPC)与AI芯片

  • 2.5D/3D集成桥梁:Fan-Out与TSV(硅通孔)技术结合,可实现多芯粒堆叠(如GPU与HBM内存集成),内存带宽提升至1TB/s以上。

  • 散热优化:塑封材料中嵌入散热通道,解决高功率密度芯片的热管理问题。

四、未来趋势:从“平面扇出”到“立体集成”

Fan-Out技术正朝着更高密度、多芯片异构集成方向演进:

  • Chiplet(芯粒)整合:通过RDL实现不同工艺节点芯粒(如CPU+FPGA)的互联,构建“虚拟SOC”,降低设计成本。

  • 与3D封装融合:例如台积电InFO_PoP(集成扇出-堆叠封装)技术,将逻辑芯片与存储芯片垂直堆叠,厚度仅0.3mm。

Fan-Out封装作为半导体产业“超越摩尔定律”的关键技术,其工艺流程的持续优化将推动电子产品向“更小、更快、更智能”迈进。

Fan-Out芯片清洗剂选择:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

合明科技研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

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合明科技凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。

主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。

半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。


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