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硅光芯片封装与市场应用分析及合明科技硅光芯片清洗剂介绍

硅光芯片将微电子与光子学技术融合,以其高传输速率、低功耗和高集成度的特点,正在成为光通信、数据中心、人工智能等领域的核心技术之一。下面我将为你分析硅光芯片的封装流程及其核心市场应用。

硅光芯片封装流程及核心市场应用分析

核心摘要

硅光芯片技术通过在硅基材料上集成光学元件与电子元件,显著提升了数据传输效率并降低了功耗。其封装流程涉及多学科交叉工艺,技术壁垒高;而在市场应用方面,硅光芯片正成为驱动AIGC、5G/6G、量子信息等领域发展的关键力量,未来几年全球市场预计将保持高速增长。

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一、硅光芯片封装流程

硅光芯片的封装是实现其功能的关键环节,技术复杂且需要多学科协作。典型的封装流程包含以下核心环节,不同技术路线会有调整和侧重:

1.1 一般封装流程

深圳市扇芯集成半导体有限公司申请的一项专利展示了硅光芯片的封装方法,其主要步骤包括:

  1. 开料:准备基板材料。

  2. 临时键合:将芯片暂时固定于载体。

  3. 塑封:用环氧树脂等材料保护芯片。

  4. 研磨:使芯片厚度均匀化。

  5. 解键合:从载体上取下芯片。

  6. 涂布、曝光、显影:完成光刻工艺,定义线路图形。

  7. 钻通孔、溅射:形成垂直互连和种子层。

  8. 图形转移、图形电镀:增加线路金属厚度。

  9. 退膜、差分蚀刻:去除多余材料,精修线路。

  10. 二次扇出线路、阻焊、表面处理:完成外部连接界面制作。

  11. 电测、切分:进行电气测试并将晶圆切割成单个芯片。

  12. 倒装焊、植锡球:将芯片与下一级封装(如PCB)互连。

此扇出型封装技术直接在硅光芯片上实现层间铜互连与表面线路重构,显著缩短了信号传输距离,提高了封装密度,克服了传统wire bonding工艺的局限性。

1.2 关键封装技术及挑战

硅光芯片封装需要同时处理光、电、热三大信号界面,并保证其长期可靠性,因此衍生出多种特殊技术和挑战。

气密封装保护对环境敏感的MEMS光学元件通过金属Bonding方法制作晶圆级密封盖(Sealing Cap),为悬臂波导等元件戴上“帽子”密封性要求高、良率控制(报道良率近90%)、成本控制
异质集成实现不同材料(如Si/InP)的功能集成Juniper/Aurrion工艺:先制作硅光无源器件,将III-V族材料键合在硅晶圆上,移除衬底后制作III-V器件不同材料热膨胀系数匹配、界面缺陷控制、工艺复杂度高
共封装光学(CPO)将光引擎与电芯片(ASIC)紧密集成利用Flip-chip、2.5D/3D集成技术将光芯片、MCU和各种ASIC芯片封装在同一个PCB衬底上,支持回流焊高密度集成带来的散热、测试和可维修性挑战

二、核心市场应用分析

硅光芯片凭借其性能优势,正在多个高速增长的市场中扮演关键角色。

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2.1 人工智能与数据中心

这是驱动硅光芯片发展的最强劲引擎。AI大模型训练和推理需要海量数据在计算单元间高速流动,硅光芯片是突破传统电互连带宽和功耗瓶颈的理想方案。

  • 高速光模块:400G/800G/1.6T光模块已成为大型数据中心标配,硅光技术因其高集成度和成本优势成为主流方案。中际旭创自主研发的硅光芯片已实现批量应用和大规模出货,其1.6T光模块也在2025年下半年进入持续量产阶段

  • LPO方案:线性驱动可插拔光学方案(LPO)因其低功耗、低延时特性,在短距离AI集群中受到青睐。新易盛的800G LPO方案已通过英伟达认证,功耗降低30%,并获得Meta的订单

  • CPO技术:共封装光学(CPO)将光引擎与交换芯片/ASIC紧密封装,是未来突破带宽和功耗墙的关键路径。多家厂商正积极布局,例如华工科技是国内华为昇腾920B服务器的唯一国产硅光供应商

2.2 通信网络

包括电信骨干网、5G/6G前传/中传/回传以及光纤接入等场景,对光芯片的可靠性、速率和成本要求苛刻。

  • 5G基础设施:25G/50G光芯片广泛应用于5G基站。

  • 光纤接入:10G PON乃至下一代50G PON技术持续推动光芯片升级。

  • 核心路由器与传输网:100G/200G及更高速率的相干光通信技术依赖于高性能磷化铟(InP)或硅光芯片。

2.3 其他新兴应用

  • 光计算:用光子进行矩阵运算、神经形态计算,有望突破传统AI计算的能效和速度极限。仕佳光子的硅光CW光源、MPO连接器已进入“流星一号”光计算芯片的配套体系

  • 车载激光雷达:高功率VCSEL阵列是车载激光雷达的核心光源。长光华芯的905nm车规VCSEL已给华为、蔚来等车企供货

  • 量子信息:硅光技术为量子计算和量子通信提供了实现精密光子操控和集成的潜在平台

三、市场前景与主要参与者

3.1 市场规模与增长

根据QYResearch的调研数据,2024年全球高速光芯片市场规模约为26.78亿美元,预计到2031年将达到63.80亿美元,2025-2031期间的年复合增长率(CAGR)为13.2%。市场的增长主要受AI算力需求、光通信迭代加速以及国产替代逻辑的推动。

3.2 主要企业与竞争格局

全球市场参与者众多,竞争激烈。下表梳理了部分核心企业及其技术亮点:

公司名称核心业务聚焦技术亮点 / 市场地位相关情报来源
中际旭创硅光+CPO800G全球市占率领先,自研硅光芯片已批量出货,1.6T模块量产中公司公告,行业报道
新易盛硅光+LPO800G LPO通过英伟达认证,功耗低30%;硅光晶圆厂建设中行业报道
华工科技硅光+CPO国内首款单波200G硅光芯片;1.6T CPO模块在研;华为昇腾服务器硅光供应商行业报道
光迅科技光芯片国内少数具备10G~400G全系列自研光芯片量产能力的企业之一;400G硅光模块已批量行业报道
仕佳光子光芯片及器件PLC分路器芯片全球市占率第二;硅光CW光源进入光计算芯片配套行业报道
Intel/SiPh硅光技术行业早期推动者之一,技术积累深厚通用知识 (未直接提及)
Juniper/Aurrion异质集成掌握InP与Si异质集成技术,实现单片集成收发器;推出集成化Opto-ASIC概念技术文献

注:此表仅基于搜索结果中的信息列举部分企业,不作为任何投资建议。

四、未来发展趋势

  1. 技术融合与持续创新:硅光技术与CPO、LPO、Lidar、光计算等更多领域结合。3D集成、异质集成(如Si/InP)、新材料(如铌酸锂薄膜、TFLN)的应用将是提升性能的关键。

  2. 标准化与生态建设:产业链协同至关重要。中国国家信息光电子创新中心已发布全国产化12寸硅光全流程套件,首次实现了从设计、制造、测试到封装工艺的全流程标准化,将有力支撑全国产硅光芯片的大规模量产和生态建设

  3. 成本控制与规模化量产:随着工艺成熟、良率提升和标准化推进,硅光芯片的成本优势将进一步凸显,从而加速其在更广阔市场的普及。

  4. 国产替代与供应链安全:在全球科技产业格局变化的背景下,实现光芯片的自主可控已成为重要战略方向。国内企业正从芯片设计、制造、封装到测试全链条发力。

五、风险与挑战

  • 技术迭代风险:光子集成技术路线仍在快速发展,可能存在技术替代风险。

  • 市场需求波动:下游资本开支(如云厂商)的波动可能影响短期需求。

  • 商业化进程:部分前沿技术(如光计算)仍处早期,商业化落地时间和规模存在不确定性。

  • 产业链协同:高度复杂的封装和集成需要芯片设计、制造、封测、系统厂商深度协作,挑战巨大。

  • 国际竞争与地缘政治:全球竞争激烈,国际贸易环境可能存在不确定性因素。

希望以上分析能帮助你全面了解硅光芯片的封装流程和市场应用


硅光芯片清洗-合明科技芯片封装前锡膏助焊剂清洗剂介绍:

水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。

污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。

这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。

合明科技研发的水基清洗剂配合合适的清洗工艺能为芯片封装前提供洁净的界面条件。

合明科技运用自身原创的产品技术,满足芯片封装工艺制程清洗的高难度技术要求,打破国外厂商在行业中的垄断地位,为芯片封装材料全面国产自主提供强有力的支持。

推荐使用合明科技水基清洗剂产品。

合明科技致力于为SMT电子表面贴装清洗、功率电子器件清洗及先进封装清洗提供高品质、高技术、高价值的产品和服务。合明科技 (13691709838)Unibright 是一家集研发、生产、销售为一体的国家高新技术、专精特新企业,具有二十多年的水基清洗工艺解决方案服务经验,掌握电子制程环保水基清洗核心技术。水基技术产品覆盖从半导体芯片封测到 PCBA 组件终端的清洗应用。是IPC-CH-65B CN《清洗指导》标准的单位。合明科技全系列产品均为自主研发,具有深厚的技术开发能力,拥有五十多项知识产权、专利,是国内为数不多拥有完整的电子制程清洗产品链的公司。合明科技致力成为芯片、电子精密清洗剂的领先者。以国内自有品牌,以完善的服务体系,高效的经营管理机制、雄厚的技术研发实力和产品价格优势,为国内企业、机构提供更好的技术服务和更优质的产品。合明科技的定位不仅是精湛技术产品的提供商,另外更具价值的是能为客户提供可行的材料、工艺、设备综合解决方案,为客户解决各类高端精密电子、芯片封装制程清洗中的难题,理顺工艺,提高良率,成为客户可靠的帮手。

合明科技凭借精湛的产品技术水平受邀成为国际电子工业连接协会技术组主席单位,编写全球首部中文版《清洗指导》IPC标准(标准编号:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC标准是全球电子行业优先选用标准,是集成电路材料产业技术创新联盟会员成员。

主营产品包括:集成电路与先进封装清洗材料、电子焊接助焊剂、电子环保清洗设备、电子辅料等。

半导体技术应用节点:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆叠集成;COB绑定前清洗;晶圆级封装;高密度SIP焊后清洗;功率电子清洗。

 


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